消息来源:上海证券报 上证报中国证券网讯记者 骆民南大光电公告,公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破 认证评估结果显示,本次认证系选择客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证,宁波南大光电研发的ArF光刻胶的测试良率结果符合要求,表明其具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求 。
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