我国芯片制造关键设备再突破

消息来源:新华网 中国电科实现离子注入机全谱系产品国产化 中国电科实现离子注入机全谱系产品国产化 2021-03-17 14:57:58 新华社北京3月17日电记者温竞华记者17日从中国电子科技集团有限公司获悉，该集团旗下装备子集团已成功实现离子注入机全谱系产品国产化，可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案 据介绍，中国电科连续突破高性能离子源、高速晶圆传输等卡脖子技术，自主研制中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机，工艺段覆盖至28nm，累计形成核心发明专利413项，实现我国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展，有效缓解我国芯片制造领域断链、短链难题 。