新型二维层状材料家族再添丁

消息来源:新华网 记者从中国科学院金属研究所获悉，沈阳材料科学国家研究中心先进炭材料研究部在新型二维材料方面取得新进展，制备出厘米级单层薄膜二维MoSi2N4材料 该研究成果日前在科学杂志在线刊发 目前广泛研究的二维层状材料如石墨烯、氮化硼等，均存在已知的三维母体材料 探索不存在已知三维母体材料的新型二维层状材料，可极大拓展二维材料的物性和应用，具有重要的科学意义和实用价值 在此基础上，该研究团队与中科院金属所陈星秋研究组和孙东明研究组合作，发现了单层MoSi2N4具有半导体性质和优于MoS2的理论载流子迁移率，表现出优于MoS2等单层半导体材料的力学强度和稳定性，并通过理论计算预测出了10多种与单层MoSi2N4具有相同结构的二维层状材料，包含不同带隙的半导体、金属和磁性半金属等 。